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CRF plasma 等離子清洗機

支持材料 測試、提供設(shè)備 試機

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等離子清洗產(chǎn)品前要做哪些準備呢

      等離子清洗機設(shè)備的工作原理:以氣體為清洗介質(zhì),能有效地避免液體清洗介質(zhì)對清洗物體的二次污染。通過外置真空泵,清洗腔體內(nèi)的等離子體沖刷待清洗物體的表面,可以在短時間內(nèi)徹底清洗有(機)污染物。同時污染物被真空泵抽走,從而達到清洗的目的。在特定的環(huán)境中,其屬性可以根據(jù)不同的材料表面而改變。等離子體作用于材料表面,重組材料表面的分子化學鍵,形成新的表面特性。

等離子清洗設(shè)備
      等離子清洗設(shè)備的基本構(gòu)造:
      根據(jù)使用的需要,可以選擇多種結(jié)構(gòu)的等離子清洗設(shè)備,也可以選擇無用氣型,通用的調(diào)節(jié)裝置包括真空室、真空泵、高頻電源、接觸器、氣體輸入系統(tǒng)、工作輸送系統(tǒng)和控制系統(tǒng)等。真空泵一般采用旋轉(zhuǎn)泵,高頻電源一般采用13.56兆赫無線電波,工作流程如下:
1.清潔后的工件送入真空室并固定好,啟動運轉(zhuǎn)裝置,開始排氣,使真空室的真空度達到10帕標準真空。通常的排氣時間大約2毫秒。
2.向真空室中注入等離子清洗用的氣體,并保持壓力為100pa。根據(jù)不使用的清潔材料,可以選擇氧氣、氫氣或氮氣。
3.對真空室電極和接地裝置之間施加高頻電壓,會引起氣體破裂,產(chǎn)生離子化作用,使電漿通過輝光放電產(chǎn)生電漿。將真空室產(chǎn)生的等離子體完(全)覆蓋在處理后的工件上,并開始清洗操作。一般的清理過程會持續(xù)幾十秒到幾分鐘。
4.清潔完畢后,切斷高頻電壓,把氣體和蒸發(fā)的污物排出,同時把氣體壓入真空室內(nèi),使空氣壓力升高,使空氣壓力上升。

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